Berriak

Industria Berriak

Eremu termikoaren diseinua SIC kristal hazkunde bakarrerako06 2024-08

Eremu termikoaren diseinua SIC kristal hazkunde bakarrerako

Potentzia elektronikan, optoelektronikan eta beste alor batzuetan SiC materialen eskaera gero eta handiagoa dela eta, SiC kristal bakarreko hazkuntza teknologiaren garapena berrikuntza zientifiko eta teknologikorako funtsezko eremua bihurtuko da. SiC kristal bakarreko hazkuntza ekipoen muina den heinean, eremu termikoen diseinuak arreta handia eta ikerketa sakona jasotzen jarraituko du.
3C SiC-ren garapenaren historia29 2024-07

3C SiC-ren garapenaren historia

Aurrerapen teknologiko jarraitua eta mekanismo sakoneko ikerketa bidez, 3C-SIC heteroepitaxial teknologia garrantzitsuak izatea espero da erdieroaleen industrian eta eraginkortasun handiko gailu elektronikoen garapena sustatzea.
ALD geruza atomikoaren deposizio errezeta27 2024-07

ALD geruza atomikoaren deposizio errezeta

Ald espaziala, espazio geruza atomikoaren deposizioa. Oihalak posizio desberdinen artean mugitzen da eta posizio bakoitzean aitzakiatzaile desberdinen eraginpean dago. Jarraian, Ald tradizionalaren eta espazialki isolatutako Ald arteko konparazioa da.
X
Cookieak erabiltzen ditugu nabigazio esperientzia hobea eskaintzeko, guneko trafikoa aztertzeko eta edukia pertsonalizatzeko. Gune hau erabiltzean, gure cookieen erabilera onartzen duzu.Pribatutasun politika
BaztertuOnartu