Web menua

Produktuen bilaketa

Hizkuntza

Produktu aipagarriak

Produktu aipagarriak-Kalitate handiko produktuak eta zerbitzu teknikoak eskaintzen dizkiegu bezeroei.

Guri buruz

Guri buruz

WuYi TianYao New Material Tech.Co., Ltd.
WuYi TianYao New Material Tech.Co., Ltd., 2016an sortua, erdieroaleen industriarako estaldura aurreratuen material hornitzaile nagusia da. Gure sortzaileak, Txinako Zientzien Akademiako Materialen Institutuko aditu ohiak, konpainia sortu zuen industriarako puntako irtenbideak garatzeko helburuarekin.

Gure produktuen eskaintza nagusiak hauek diraCVD silizio-karburoa (SiC) estaldurak, tantalio karburoa (TaC) estaldurak, ontziratu gabeko SiC, SiC hautsak eta purutasun handiko SiC materialak. Produktu nagusiak SiC estalitako grafito susceptor, preberotzeko eraztunak, TaC estalitako desbideratze eraztunak, erdiko zatiak, etab., purutasuna 5ppm-tik beherakoa da, bezeroen eskakizunak bete ditzake.

150

Langileak

12

Ekoizpen-lerroak

2

Ekoizpen Oinarriak

2

I+G zentroak

Gehiago ikusi
Vetek Silicon Carbide estalduraren, Tantalum Carbide estalduraren, Txinan, Txinan, Txinan, Tantalum Carbide estaldura eta hornitzailearen profesionala da. Gure fabrikako produktuak erosteko ziurtatu dezakezu eta salmenta osteko zerbitzua eskainiko dizugu.

Gure Zerbitzuak

CNC Machining

CNC mekanizazioa

Material Sintering

Materialen sinterizazioa

Material Purification

Materialen arazketa

CVD Coating

CVD estaldura

Material Testing

Materialen Saiakuntza

Gure abantailak

Material aurreratuek etorkizuna aldatzen dute. Mundu mailan material erdieroaleen berritzaile nagusiena izatea du helburu.

Advanced Equipment & Testing Capacity

Ekipamendu aurreratuak eta probak egiteko gaitasuna

12 produkzio-lerro aurreratu funtzionatzen ditugu industria-puntako CVD eta ikuskapen-ekipamenduen 80 multzo baino gehiagorekin, masa-ekoizpen egonkorra eta kalitate-kontrol zorrotza bermatzeko.

Dual R&D Centers & Deep Expertise

I+G zentro bikoitzak eta esperientzia sakona

CAS irakasle ohi batek sortua, urteko % 30etik gorako I+G inbertsioarekin, gure I+G plataforma bikoitzak arrakastaz gainditzen ditu azpiko mekanismoen ikerketaren eta industria-hedapenaren arteko aldea.

Strategic Industry Recognition

Industria Estrategikoaren Aitorpena

Zirkuitu integratuetako industria-katean gida-enpresa aitortu gisa, VeTek Semiconductor-ek kapital-inbertsio estrategikoak jaso ditu goi-mailako zerrendatutako erdieroaleen lider askorengandik.

High-Purity & High-Barrier Solutions

Garbitasun handiko eta oztopo handiko irtenbideak

Garbitasun handiko eta tenperaturari erresistenteak diren CVD estaldurak eta osagaiak eskaintzen ditugu, zerbitzu-bizitza eraginkortasunez luzatzen dutenak eta ekoizpen-kostuak optimizatzen dituzten erdieroale eta PV bezero globalentzat.

FABRIKAREN SARRERA

VeTek Semiconductor-ek ikerketa eta garapen zentro bikoitzak funtzionatzen ditu, I+G eta ekoizpen gaitasunak integratuz. Gaur egun 2 produkzio-oinarri, 12 produkzio-lerro, 150 langile baino gehiago ditu, I+G-k % 30 baino gehiago hartzen du, gure taldeak teknologia, produkzio, salmenta eta eragiketen kudeaketan oinarritzen da eta gaitasun integral sendoa du. Produktuen diseinua LED, IC zirkuitu integratuan, hirugarren belaunaldiko erdieroaleetan, fotovoltaikoetan eta beste industria batzuetan erabiltzen da.

GURE BEZEROEK DIOTENA

WHAT OUR CLIENTS SAY
WHAT OUR CLIENTS SAY
WHAT OUR CLIENTS SAY

APLIKAZIO EREMUA

APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD

Ohiko galderak

Q1: Zure estaldura produktuak eta osagai solidoak guztiz pertsonalizatu al daitezke gure planoetara?

A: Bai, erabateko pertsonalizazioa da gure indarra. Mutuerako mekanizazio pertsonalizatua eskaintzen dugu zure marrazki zehatzetan oinarrituta, substratu egokienak hautatuz eta uniformetasun handiko CVD SiC edo TaC estaldurekin parekatuz, zure erdieroaleen ekipamendua ezin hobeto egokitzeko.

Q2: Nola bermatzen duzu erdieroale-mailako materialek behar duten purutasun handia?

A: Lehengaien baheketa zorrotza eta tenperatura altuko arazketa prozesu aurreratuak ezartzen ditugu. Elementu guztiak aztarnak aztertzen dira, ICP-OES eta GDMS bezalako proba-ekipo profesionalak erabiliz, gure estaldurek eta grafitoko osagaiek txiparen industriako ultrapuru eta partikularik gabeko estandarrak betetzen dituztela ziurtatzeko.

Q3: Zein kalitate kudeatzeko sistema eta industriaren ziurtagiriak dituzu?

A: Gure ekoizpen-instalazioak ISO9001 kalitatea kudeatzeko sistemaren arabera funtzionatzen du. Substratuaren mekanizaziotik azken lurrun-deposizio kimikora arte (CVD) prozesura, urrats bakoitzak dimentsio- eta gainazaleko zehaztasun-kontrol zorrotzak egiten ditu bidali aurretik.

4.G.: Lagin-probak onartzen dituzu eskaerak egin aurretik, eta zein da prozesua?

E: Bai, ongietorria ematen diogu lagin-ebaluazioa susceptor pertsonalizatuei, ostia-ontziei edo ostia finkoei. Zure parametro operatibo espezifikoak edo ekipo-ereduak eman ditzakezu (adibidez, LPE, Aixtron edo ASM), eta probako lagin bat emango dizugu zure baldintza termikoak eta prozesuak betetzen dituela ziurtatzeko.

Q5: Zein da produktu estandar eta pertsonalizatuetarako produkzio-epea?

A: Konfigurazio estandarrak edo eskuragarri dagoen inbentarioa lortzeko, berehala bidaltzen dugu. Doitasun mekanizatua eta CVD estaldura prozesatzea eskatzen duten elementu pertsonalizatuetarako, denborak normalean 3 eta 6 aste bitartekoak izaten dira, diseinuaren konplexutasunaren eta lotearen bolumenaren arabera.

Q6: Zein motatako salmenta osteko laguntza teknikoa eskaintzen diezu nazioarteko bezeroei?

E: 24/7 lineako aholkularitza teknikoa eskaintzen dugu zure eremu termikoak eta osagaien iraupena optimizatzen laguntzeko. Prozesuaren integrazioan arazo operatiboak edo kontzentrazio-gorabeherak gertatzen badira, gure I+Gko ingeniariek urrunetik lan egingo dute zurekin irtenbide azkar eta praktikoak emateko.

Berriak

  • Ongi etorri bezeroei Veteksemicon-en karbono-zuntz produktuen fabrika bisitatzera
    2025-09-10
    Ongi etorri bezeroei Veteksemicon-en karbono-zuntz produktuen fabrika bisitatzera

    2025eko irailaren 5ean, Poloniako bezero batek VETEK-eko fabrika bat bisitatu zuen karbono-zuntzezko produktuak ekoizteko gure teknologia aurreratuak eta prozesu berritzaileak ezagutzeko.

  • CVD SiC foku eraztun solidoen fabrikazioaren barnean: grafitotik zehaztasun handiko piezetara
    2026-01-23
    CVD SiC foku eraztun solidoen fabrikazioaren barnean: grafitotik zehaztasun handiko piezetara

    Erdieroaleen fabrikazioaren apustu handiko munduan, non zehaztasuna eta muturreko inguruneak batera bizi diren, Silizio Karburoa (SiC) foku eraztunak ezinbestekoak dira. Erresistentzia termiko, egonkortasun kimiko eta erresistentzia mekanikoagatik ezagunak dira osagai hauek plasma bidezko grabaketa prozesu aurreratuetarako. Haien errendimendu handiaren atzean dagoen sekretua Solid CVD (Chemical Vapor Deposition) teknologian dago. Gaur, agertoki atzetik eramango zaitugu fabrikazio-bidaia zorrotza arakatzeko: grafitozko substratu gordinatik zehaztasun handiko fabrikaren "heroi ikusezin" batera.

  • VETEK SEMICON Europa 2025-en parte hartuko du Munichen (Alemania).
    2025-11-20
    VETEK SEMICON Europa 2025-en parte hartuko du Munichen (Alemania).

    2025ean, Europako erdieroaleen industria berriro ere elkartuko da Municheko SEMICON Europa erdieroaleen azoka handienean azaroaren 18tik 21era.

  • CVD estaldura erdieroaleen epitaxian: ingeniaritza-parametroak, SiC/TaC hautaketa eta hutsegiteen kontrola
    2026-09-04
    CVD estaldura erdieroaleen epitaxian: ingeniaritza-parametroak, SiC/TaC hautaketa eta hutsegiteen kontrola

    CVD SiC eta TaC estaldurek egonkortasun termikoan, kutsaduran, partikulek eta epitaxia erdieroalean errepikagarritasunean nola eragiten duten aztertzen duen liburu zuri teknikoa, parametro-taulekin, estaldura-hautatze-erabakien zuhaitzarekin, hutsegite-mekanismoekin eta RFQ irizpideekin.

  • Vetek Semiconductor CSEAC 2026-n: material erdieroaleen aurrerapena, oinarrizko osagaiak eta lankidetza globala
    2026-09-04
    Vetek Semiconductor CSEAC 2026-n: material erdieroaleen aurrerapena, oinarrizko osagaiak eta lankidetza globala

    Vetek Semiconductor-ek CSEAC 2026-n parte hartu zuen Wuxi-n, Txinan, eta bere CVD SiC eta TaC estaldura aurreratuak, grafitozko osagaiak, SiC zeramika eta erdieroaleen nukleoko beste material batzuk erakutsi zituen. Ekitaldiak aukera baliotsuak eman zituen bezeroen lankidetzak sendotzeko, teknologia berriak eztabaidatzeko, lankidetza proiektuak aurreratzeko eta erdieroaleen industria globalaren etorkizuneko aukerak aztertzeko.

  • TaC estaldura: 8 hazbeteko silizio karburoko PVT epitaxiaren etekinaren zaintzailea
    2026-08-28
    TaC estaldura: 8 hazbeteko silizio karburoko PVT epitaxiaren etekinaren zaintzailea

    8 hazbeteko SiC bolumenaren ekoizpenean dago orain, baina obleen etekinak - ez ahalmena - bereizten ditu irabazleak. Gida honek azaltzen du zergatik grafito-gune beroko piezen TaC estaldurak etekina erabakitzen duen eta hornitzaile bat nola sailkatu.

  • Substratua vs. Epitaxia: Erdieroaleen fabrikazioan funtsezko eginkizunak
    2026-08-21
    Substratua vs. Epitaxia: Erdieroaleen fabrikazioan funtsezko eginkizunak

    Txiparen fabrikazio modernoan, substratuak euskarri fisikoa eta beroa xahutzeko bidea eskaintzen ditu, eta geruza epitaxialak gailuaren errendimendu elektrikoaren mugak zehazten ditu. Artikulu honek kristal bakarreko silizio eta silizio karburoko substratuen eta CVD/MBE prozesu epitaxialen arteko oinarrizko desberdintasunen azterketa sakona eskaintzen du, eta teknologia epitaxialak maiztasun handiko eta tentsio handiko gailuen errendimendua nola hobetzen duen erakusten du akatsen dentsitatea murriztuz eta tentsio-ingeniaritza sartuz. Prozesu-ingeniaria edo kontratazio-erabakiak hartzen dituena izan, gida honek obleak aukeratzeko estrategia egokiena identifikatzen lagunduko dizu.

  • Zergatik da kritikoa tantalio karburo porotsua (TaC) estalitako grafito eraztuna SiC kristalen hazkunde fidagarrirako
    2026-08-20
    Zergatik da kritikoa tantalio karburo porotsua (TaC) estalitako grafito eraztuna SiC kristalen hazkunde fidagarrirako

    Tantalo Karburo Porotsua (TaC) Estalitako Grafito Eraztuna eremu termikoko osagai espezializatu bat da, Lurrun Garraio Fisikorako (PVT) SiC kristal bakarreko hazkuntzarako diseinatua. Garbitasun handiko grafito porotsua CVD tantalio karburozko estaldura trinko batekin konbinatuz, tenperatura altuko egonkortasuna, korrosioaren babesa, bero banaketa kontrolatua eta kutsadura txikia eskaintzen ditu. Artikulu honek bere egitura, abantaila teknikoak, aplikazioak, zehaztapenak eta hautaketa-gogoetak azaltzen ditu erdieroaleen eta SiC kristal-hazkuntza-ekipoetarako.

  • GTMS/CTMS Grafitozko aparatu berezien pertsonalizazioa: Micro-Hole Deep Machining Solution
    2026-08-13
    GTMS/CTMS Grafitozko aparatu berezien pertsonalizazioa: Micro-Hole Deep Machining Solution

    GTMS/CTMS zigilatze hermetikoko prozesuei zuzenduta, VeTek-ek grafito-konponbide berezi pertsonalizatuak eskaintzen ditu 0,01 ㎡ bakoitzeko 1.500 mikro-zulo trinkoekin. Kovar aleazio CTE zehazki bat datorrena, 10 hilabetetan zehar zulo anitzeko mikromekanizazio-erronka gaindituz, mikro-mailako zero akatsen kontrola eta ingeniaritza bakarreko entrega lortuz.

  • Zergatik da Garbitasun handiko kuartzo ostia TELerako ezinbestekoa bihurtzen erdieroale aurreratuen fabrikaziorako
    2026-08-07
    Zergatik da Garbitasun handiko kuartzo ostia TELerako ezinbestekoa bihurtzen erdieroale aurreratuen fabrikaziorako

    Bizkor eboluzionatzen ari den erdieroaleen industrian, doitasun-materialek zuzenean zehazten dute oblea prozesatzeko kalitatea eta produkzio-eraginkortasuna. VETEK-ek errendimendu handiko purutasun handiko Quartz Wafer Boat For TEL irtenbideak eskaintzen ditu erdieroaleen fabrikazio prozesu aurreratuetarako diseinatuta, egonkortasun termiko bikaina, erresistentzia kimikoa eta kutsadura kontrola eskaintzen dituen obleen fabrikazio ingurune zorrotzetarako.

  • SiC estaldura ertzaren horia konpontzea CVD errendimendua %50etik %90era areagotzeko
    2026-08-05
    SiC estaldura ertzaren horia konpontzea CVD errendimendua %50etik %90era areagotzeko

    MOCVD epitaxia grafito suszeptoreetan silizio-karburoaren estalduraren ertzak horiztzearen eta zuritzearen arrazoien azterketa sakona. VeTek-ek mikro-estresa ezabatu zuen CVD hasierako deposizio-tasa eta fluxu-eremua zehatz-mehatz kontrolatuz, estaldura-etekina % 50etik % 90era handituz eta purutasun handiko grafito piezen zerbitzu-bizitza luzatuz.

  • Nola konpondu poltsikotik poltsikoko aldakuntza handia poltsiko anitzeko silizio epitaxia grafito suszeptoreetan?
    2026-08-03
    Nola konpondu poltsikotik poltsikoko aldakuntza handia poltsiko anitzeko silizio epitaxia grafito suszeptoreetan?

    Poltsiko anitzeko silizio epitaxia grafito suszeptoreetan %1,4ko poltsikotik poltsikoko lodieraren aldakuntzari aurre eginez, VeTek Semi-k suszeptoreen lautasuna <0,08 mm-ra hobetu du eta aldakuntza % 0,69ra murriztu du CVD fluxuaren eremuaren simulazioaren eta SiC estaldura ultra-zehaztasunez, obleen errendimendua areagotuz.

X
Cookieak erabiltzen ditugu nabigazio esperientzia hobea eskaintzeko, guneko trafikoa aztertzeko eta edukia pertsonalizatzeko. Gune hau erabiltzean, gure cookieen erabilera onartzen duzu.Pribatutasun politika
BaztertuOnartu