AIXTRON MOCVD euskarria

by sortutako SusceptorsErdieroalea dagrafitozko substratuz eta silizio karburoz (SiC) estaldura-materialez eginda daude. Higadura-erresistentzia handiagoa, korrosioarekiko erresistentzia eta SiC materialaren gogortasun oso handia kontuan hartuta, bereziki egokia da prozesu-ingurune gogorretan erabiltzeko. Hori dela eta, Vetek Semiconductor-ek ekoitzitako Susceptors zuzenean erabil daitezke tenperatura altuko MOCVD prozesuetan gainazal tratamendu gehigarririk gabe.

Susceptoreak erdieroaleen fabrikazioan funtsezko osagaiak dira, batez ere MOCVD ekipamenduetan film meheen deposizio prozesuetarako. -ren eginkizun nagusiaAIXTRON: Beraz, laguntzaMOCVD prozesuan, semuko-ogiak eramatea da, film meheen deposizio uniformea ​​eta kalitate handiko deposizioa bermatzea, bero banaketa eta erreakzio ingurune uniformea ​​eskainiz, eta horrela, kalitate handiko film ekoizpena lortuz.

Aixtron MOCVD hargailuaNormalean esnuko eroaleen oinarria babesteko eta konpontzeko erabiltzen da depositu prozesuan obraren egonkortasuna bermatzeko. Aldi berean, AIXTRON MOCVD Suscordor Silicon Carbide (SIC) estaldura osatuta dago, oso termikoki eratorritako materiala. SIC estaldurak tenperatura uniformea ​​bermatzen du obraren gainazalean, eta berogailu uniformea ​​ezinbestekoa da kalitate handiko filmak lortzeko.

Gainera,Aixtron MOCVD hargailuaGas erreaktiboen fluxua eta banaketa kontrolatzeko eginkizun handiagoa du materialen diseinu optimizatuaren bidez. Saihestu zorabiar korronteak eta tenperatura gradienteak film uniformea ​​lortzeko.

Are garrantzitsuagoa dena, MOCVD prozesuan, silizio karburoa (SiC) estaldura-materialak korrosioarekiko erresistentzia du, berazErdieroalea da'sAixtron MOCVD hargailuatenperatura altuak eta gas korrosiboak jasan ditzake.

Oinarrizko propietate fisikoakSIC ESTALDIA:

VeTek Semiconductor Wafer Boat dendak:

Txip erdieroaleen epitaxia industria-katearen ikuspegi orokorra: