Laguntza Zerbitzua

VeTek Semiconductor-ek kalitate handiko aluminiozko nitruroa (AlN) kristal bakarreko obleak eta substratuak hornitzen ditu hurrengo belaunaldiko banda zabaleko erdieroaleen gailuetarako. Gutxi gorabehera 6,2 eV-ko banda ultra-zabalarekin, eroankortasun termiko bikainarekin, isolamendu elektriko paregabearekin eta GaN-rekin sare eta hedapen termikoarekin bat datozenez, AlN obleak ezin hobeak dira potentzia handiko RF gailuetarako, tentsio handiko potentzia elektronikorako eta ultramore sakonerako (DUV) optoelektronikarako.

VETEK Garbiketa Zerbitzu Profesionala CVD SiC Coated Graphite Piezen Aixtron / Veeco MOCVD ekipoen susceptor eta GaN / AlN / AlGaN prozesu epitaxialetan erabiltzen diren grafito osagaietarako diseinatutako zerbitzu tekniko espezializatua da. Gure jabedun garbiketa-prozesuak gainazaleko memoria-efektua guztiz ezabatzen du, erreaktorean gas-fluxu egonkorra berreskuratzen du eta 100 µm CVD SiC estaldura zorrotz babesten du, lodiera-galera erabateko zeroarekin eta zero metal-hondakinarekin.

Sentsibilitate handiko eta potentzia baxuko MEMS transduktoreen eskaria 5G komunikazioen, doitasuneko gailu medikoen eta eramangarri adimendunen hedapenarekin hazten den heinean, gure PZT Si/SOI obleek material kritikoa eskaintzen dute. Sol-gel edo sputtering bezalako film meheko deposizio-prozesu aurreratuak erabiliz, koherentzia paregabea eta errendimendu piezoelektriko handiagoa lortzen dugu silizioko substratuetan. Ostia hauek energia elektromekanikoa bihurtzeko oinarrizko nukleo gisa balio dute.

Silizio karburoaren kristalaren hazkundea errendimendu handiko erdieroaleen gailuen fabrikazioan oinarrizko prozesu bat da. Kristal hazteko ekipoen egonkortasuna, zehaztasuna eta bateragarritasunak zuzenean zehazten du silizio karburoko lingoteen kalitatea eta etekina. Lurrun Garraio Fisikoaren (PVT) teknologiaren ezaugarrietan oinarrituta, Veteksemi-k erresistentzia berotzeko labe bat garatu du siliziozko karburozko kristalen hazkuntzarako, 6 hazbeteko, 8 hazbeteko eta 12 hazbeteko siliziozko karburozko kristalen hazkuntza egonkorra ahalbidetuz, material eroale, erdi isolatzaile eta N motako sistemekin bateragarritasun osoz. Tenperaturaren, presioaren eta potentziaren kontrol zehatzaren bidez, modu eraginkorrean murrizten ditu kristalen akatsak, hala nola EPD (Etch Pit Density) eta BPD (Basal Plane Dislocation), energia-kontsumo txikia eta diseinu trinkoa dituen bitartean, eskala handiko ekoizpen industrialaren estandar altuak betetzeko.

CMP leunketa-minda (Chemical Mechanical Polishing Slurry) erdieroaleen fabrikazioan eta material zehaztasunez prozesatzeko errendimendu handiko materiala da. Bere oinarrizko funtzioa materialaren gainazalaren lautasun fina eta leuntzea da korrosio kimikoaren eta artezketa mekanikoaren efektu sinergikoaren pean lautasun eta gainazaleko kalitate eskakizunak nano mailan betetzeko. Zure kontsulta gehiagoren zain.

Txinako sic wafer fabrikatzaile eta hornitzaile garrantzitsuenak direnez, Vetek erdieroalea CVD Sic estaldura Dummy Wafer tresna espezializatua da fabrikazio erdieroaleetan, batez ere silikonazko wafer probak egiteko eta wafer probatzeko prozesuaren helburuarekin. Zure kontsulta gehiago ongi etorriak dira.