Cvd sic estalitako ogientzako barrako titularra

Metalezko produktu kimiko organikoko gordailua (MOCVD) gaur egungo hazkunde epitaxialen teknologiarik beroena da, hau da, laserra eta LED erdieroaleen fabrikazioan oso erabilia da, batez ere Gan Epitaxia. Epitaxiak kristal substratu batean kristal beste film bakarraren hazkundea aipatzen du. Epitaxia teknologiak ziurtatu dezake kristalen film berria estrukturalki lerrokatutako kristal substratuarekin lerrokatuta dagoela. Teknologia honek substratuaren gaineko propietate zehatzak dituzten filmak haztea ahalbidetzen du, ezinbestekoa da errendimendu handiko erdieroaleen gailuak fabrikatzeko.

Wafer Barrel Titularra Epitarxo Hazkunde Labearen funtsezko osagaia da. CVD Sic Estaldura Wafer Titularra oso erabilia da CVD Epitarxo Hazkunde Labeetan, batez ere MOCVD EPITAXIAL HAZKUNTZA Labeak.

Funtzioak eta feCVD SIC estalitako upel euskarriaren atendiak

● Jarrai eta berotzeko substratuak: CVD sic estalitako upel suscardor erabiltzen da Substratuak eramateko eta beharrezko berogailua eskaintzen du MOCVD prozesuan zehar. CVD Sic estalitako ogientzako barrakoa garbitasun handiko grafitoz eta SIC estalduraz osatuta dago eta errendimendu bikaina du.

● Uniformitatea: MOCVD prozesuan zehar, grafito upelaren euskarria etengabe biratzen da geruza epituxialaren hazkunde uniformea ​​lortzeko.

● Egonkortasun termikoa eta uniformetasun termikoa: SIC estalitako upelaren siceptor estaldurak egonkortasun termiko bikaina eta uniformetasun termikoa ditu, eta, beraz, epituxial geruzaren kalitatea ziurtatu du.

● Saihestu kutsadura: CVD SIC estalitako ogien barrako titularrak egonkortasun bikaina du.

● Zerbitzuaren bizitza ultra luzea: SIC estaldura dela eta, CVD SIC estalitako bArrel Suscordor-ek MOCVD-ren tenperatura altuko eta gasaren ingurune korrosiboa nahiko iraunkortasuna du oraindik.

Kanpoko CVD erreaktorearen eskema

Vemen erdieroalearen CVD SIC estalitako upel euskarriaren ezaugarririk handiena

● Pertsonalizazio maila altuena: Grafito substratuaren konposizio materiala, SIC estalduraren konposizio materiala eta lodiera eta wafer titularraren egitura pertsonaliza daiteke bezeroen beharrizanen arabera.

● Beste hornitzaile batzuen aurretik egotea: Vetek erdieroalearen SIC grafitoaren grafitoaren sisceptor Bezeroaren beharraren arabera ere pertsonaliza daiteke. Barneko horman, eredu konplexuak egin ditzakegu bezeroen beharrei erantzuteko.

Sortu zenetik, Vetek erdieroaleak SIC estalduraren teknologiaren etengabeko esplorazioarekin konpromisoa hartu du. Gaur egun, Vetek erdieroaleak industriaren estaldura produktuaren indarra du. Vetek erdieroaleak zure bikotekidea bihurtzea espero du CVD Sic Wafer Barrel Producer produktuetan.

CVD SIC estalduraren filmaren datuak kristal egitura

CVD SIC estalduraren oinarrizko propietate fisikoak