Grafitozko ontzia PECVDrako

Aplikazioa: PECVDrako Veteksemicon grafitozko ontzia plasmaz hobetutako lurrun-jadaketa kimikoaren prozesuko oinarrizko osagaia da. Bereziki diseinatuta dago kalitate handiko silizio nitruroa, silizio oxidoa eta beste film mehe batzuk siliziozko obleetan, erdieroale konposatuetan eta pantaila-panelen substratuetan. Bere errendimenduak zuzenean zehazten du filmaren uniformetasuna, prozesuaren egonkortasuna eta ekoizpen kostua.

Eman daitezkeen zerbitzuak: bezeroen aplikazio-eszenatokien azterketa, materialak lotzea, arazo teknikoak ebaztea.

Enpresaren profila：Veteksemicon-ek 2 laborategi ditu, 20 urteko material esperientzia duen aditu talde bat, I+G eta ekoizpen, proba eta egiaztapen gaitasunekin.

Produktuari buruzko informazio orokorra

Produktuen negozio-baldintzak

Aplikazio-eremu nagusiak

Nire arerioa Grafitozko itsasontzia PECVDren abantaila nagusietarako

1. Garbitasun handiko substratuak, iturriko kutsadura kontrolatuz

Garbitasun handiko grafito isostatikoki sakatuta, %99,995etik gorako purutasun egonkorrarekin, oinarrizko material gisa erabiltzen tematzen gara, 1600 °C-ko etengabeko funtzionamendu-ingurunean ere metalezko ezpurutasunak prezipitatuko ez dituela ziurtatzeko. Material-eskakizun zorrotz honek eramailearen kutsadurak eragindako obleen errendimenduaren degradazioa zuzenean saihestu dezake, kalitate handiko silizio nitruroa edo silizio oxidoaren filmak igortzeko bermerik funtsezkoena eskainiz.

2. Eremu termiko zehatza eta egitura-diseinua prozesuaren uniformetasuna bermatzeko

Fluidoen simulazio eta prozesuen neurketa datu zabalen bidez, ontziaren zirrikitu-angelua, gidaren zirrikituaren sakonera eta gas-fluxuaren ibilbidea optimizatu ditugu. Egitura-gogoeta zorrotz honek gas erreaktiboen banaketa uniformea ​​ahalbidetzen du obleen artean. Benetako neurketek erakusten dute karga osoarekin, lote bereko obleen arteko film-lodieraren desbideraketa egonkorra ±% 1,5ean kontrola daitekeela, produktuaren etekina nabarmen hobetuz.

3. Prozesu espezifikoen korrosioari aurre egiteko estaldura-soluzio pertsonalizatuak

Bezero desberdinen prozesuko gas-ingurune desberdinak asetzeko, bi estaldura-aukera heldu eskaintzen ditugu: karbono pirolitikoa eta silizio-karburoa. Batez ere silizio nitruroa jartzen baduzu eta hidrogenoaren garbiketa erabiltzen baduzu, karbono pirolitikozko estaldura trinkoak erresistentzia bikaina eman dezake hidrogenoaren plasma higadurari. Zure prozesuak fluoroa duten garbiketa-gasak badakartza, orduan gogortasun handiko silizio-karburozko estaldura aukera hobea da. Ingurune oso korrosiboetan grafitozko ontziaren bizitza iraupena estali gabeko produktu arrunten hiru aldiz baino gehiago luza dezake.

4. Shock termikoen egonkortasun bikaina, maiz tenperatura-zikloetara moldagarria

Gure grafito formula bereziari eta barne indargarrizko saihets-diseinuari esker, gure grafitozko itsasontziek PECVD prozesuaren hozte- eta berotze-kolpeak behin eta berriz jasan ditzakete. Laborategiko proba zorrotzetan, giro-tenperaturatik 800 °C-ra arteko 500 ziklo termiko azkarren ondoren, itsasontziaren malgutasun-erresistentzia atxikipen-tasa % 90 gainditzen zuen oraindik, estres termikoak eragindako pitzadurak eraginkortasunez saihestuz eta ekoizpenaren jarraipena eta segurtasuna bermatuz.

5. Kate ekologikoa egiaztatzeko abala

Nire arerioa PECVD-en kate ekologikoaren egiaztapenak lehengaiak estaltzen ditu, nazioarteko estandar ziurtagiria gainditu du eta teknologia patentatu batzuk ditu erdieroaleen eta energia berrien eremuan fidagarritasuna eta iraunkortasuna bermatzeko.

Zehaztapen tekniko zehatzak, liburu zuriak edo laginak probatzeko moldaketak lortzeko, jarri harremanetan gure Laguntza Teknikoko Taldearekin Veteksemicon-ek zure prozesuaren eraginkortasuna nola hobetu dezakeen aztertzeko.