Berriak

Silizio karburoa (SiC)-ren hazteko metodo nagusiak PVT, TSSG eta HTCVD dira, bakoitzak abantaila eta erronka desberdinak dituena. Karbonoan oinarritutako eremu termikoko materialek, esaterako, isolamendu sistemak, arragoa, TaC estaldurak eta grafito porotsua kristalen hazkundea hobetzen dute, egonkortasuna, eroankortasun termikoa eta garbitasuna eskainiz, funtsezkoak SiC-ren fabrikazio eta aplikazio zehatzerako.

SiC-k gogortasun, eroankortasun termiko eta korrosioarekiko erresistentzia handia du, erdieroaleen fabrikaziorako aproposa da. CVD SiC estaldura lurrun-jadapen kimikoen bidez sortzen da, eroankortasun termiko handia, egonkortasun kimikoa eta hazkuntza epitaxialerako sare-konstante bat eskaintzen duena. Bere hedapen termiko baxuak eta gogortasun handiak iraunkortasuna eta zehaztasuna bermatzen ditu, eta ezinbestekoa da obleen eramaileetan, aurrez berotzeko eraztunetan eta abar bezalako aplikazioetan. VeTek Semiconductor SiC estaldura pertsonalizatuetan espezializatuta dago industria-beharretarako.

Silicon Carbide (SIC) zehaztasun handiko material erdieroalearengatik da, tenperatura altuko erresistentzia, korrosioarekiko erresistentzia eta indar mekaniko handiko propietate bikainengatik. 200 kristal egitura baino gehiago ditu. 3C-SIC nabarmentzen da elektroi mugikortasun handiko mugikortasunagatik, motor elektronikoko elementuetarako aproposa bihurtuz. Gainera, potentzial handia erakusten du nanoelektronika, LED urdinak eta sentsoreetan.

Diamantea, laugarren belaunaldiko "azken erdieroale" potentziala, arreta pizten ari da erdieroaleen substratuetan, bere aparteko gogortasuna, eroankortasun termikoa eta propietate elektrikoak direla eta. Bere kostu altuak eta ekoizpen-erronkek erabilera mugatzen duten arren, CVD da hobetsitako metodoa. Dopina eta eremu zabaleko kristalen erronkak izan arren, diamanteak agintzen du.