Sic icp grabatzeko plaka

ICP grabaketa (indukziozko plasma-grabaketa) Teknologia zehaztasun handiko prozesua da, zehaztasun handiko fabrikazioan, zehaztasun handiko eta kalitate handiko patroi transferentziarako erabiltzen dena, batez ere zulo sakona egiteko, mikro-patroi prozesatzeko eta abar.

ElektroniraSIC ICP grabatzeko plaka ICP prozesurako bereziki diseinatuta dago, kalitate handiko SIC materialak erabiliz eta errendimendu bikaina eman dezake tenperatura altuan, korrosibo eta energia-ingurune handietan. Errodatzeko eta laguntzeko funtsezko osagai gisa,Icp etchPlakak egonkortasuna eta eraginkortasuna bermatzen ditu grabaketa prozesuan.

Sic icp grabatzeko plakaProduktuaren ezaugarriak

● Tenperatura altuko tolerantzia

SIC ICP grabatzeko plakak 1600 ºC-ko tenperatura aldaketak jasan ditzake.

●  Korrosioarekiko erresistentzia bikaina

Silizio karburo materialaHidrogeno fluoruroa, hidrogeno kloruroa, hidrogeno kloruroa, azido sulfurikoa, etab.

●  Hedapen termiko baxuko koefizientea

SIC ICP grabatzeko plakak hedapen termikoko koefiziente baxua du, tenperatura altuko ingurunean dimentsioko egonkortasun ona mantendu dezakeena, tenperatura aldaketek eragindako estresa eta deformazioa murriztea eta grabaketa prozesu zehatza bermatzea.

●  Gogortasun eta higadura erresistentzia handia

SIC-ek 9 mohs gogortasun gogorren gogortasuna du, hau da, grabaketa prozesuan gerta daitekeen higadura mekanikoa modu eraginkorrean saihestu dezake, zerbitzu-bizitza luzatu eta ordezkatzeko maiztasuna murrizteko.

● eZELDIOAREN ERAGINTZA TERMIKOA

Eroankortasun termiko bikainak ziurtatzen duSic erretiluaAzkar xahutu dezake beroa grabatzeko prozesuan zehar, bero-metaketaren ondorioz sortutako tenperatura igoerak saihestuz, grabaketa prozesuaren egonkortasuna eta uniformetasuna bermatuz.

Talde tekniko sendo baten laguntzarekin, Vetekemiceric Sic ICP-ko erretiluak hainbat proiektu zail ditu eta produktu pertsonalizatuak eskaintzen ditu zure beharren arabera. Zure kontsulta espero dugu.

CVD SICen oinarrizko propietate fisikoak: