TAC estaldura gida eraztunak

TAC estaldura gida eraztunen funtzioa:

Gasaren fluxu kontrol zehatza:TAC estaldura gida eraztunaestrategikoki kokatuta dago gasaren injekzio sistemaren barruanMOCVD erreaktorea. Bere funtzio nagusia aitzindarien gasaren fluxua zuzentzea da eta substratuaren gainazaleko gainazaleko banaketa uniformea ​​ziurtatzea da. Gas-fluxuaren dinamikaren gaineko kontrol zehatz hau ezinbestekoa da epitaxial geruza hazkunde uniformea ​​eta nahi diren material propietateak lortzeko.

Kudeaketa termikoa: TAC estalduraren gida eraztunak tenperatura altuetan funtzionatzen du maiz, suscoltzaile eta substratu beroarekiko hurbiltasuna dela eta. TACen eroankortasun termiko bikainak bero modu eraginkorrean xahutzen laguntzen du, erreakzio eremuaren barruan tenperatura profil egonkorra berotzea eta mantentzea saihestea.

TACen abantailak MOCVD-n:

Muturreko tenperatura erresistentzia: TAC-ek material guztien artean urtzen den punturik altuenetakoa da, 3800 ºC-tik gorakoa.

Inertasun kimiko nabarmena: TACek aparteko erresistentzia du korrosioarekiko eta eraso kimikoarekiko, MOCvd-en erabiltzen diren sekuradore erreaktiboak, hala nola amoniakoa, silanoa eta metalezko konposatu metalikoak.

Propietate fisikoakTAC estaldura:

MOCVD errendimenduaren onurak:

MOCVD ekipamenduetan Vemen erdieroaleen TAC estalduraren gida eraztunaren erabilerak nabarmen laguntzen du:

Ekipamendu handiak Uptime: TAC estalduraren gidaren eraztunaren iraunkortasuna eta luzatutako bizimoduak maiz ordezkatzeko beharra murrizten du, mantentze-lanak gutxitzea eta MOCVD sistemaren eraginkortasun operatiboa maximizatzea.

Prozesuen egonkortasuna hobetzea: TACen egonkortasun termikoak eta inertasun kimikoek erreakzio ingurune egonkorragoa eta kontrolatuagoa egiten dute MOCVD ganberaren barruan, prozesuen aldaketak minimizatuz eta erreproduktibitatea hobetzen laguntzen dute.

Geruza epitaxial hobetzea uniformetasuna: TAC estaldura-gida eraztunek errazten duten gas-fluxuen kontrol zehatzak aitzindarien banaketa uniformea ​​bermatzen du eta oso uniformea ​​daGeruza epitaxialaren hazkundealodiera eta konposizio koherentearekin.

Tantalum Carbide (TAC) estaldurazeharkako sekzio mikroskopikoan: