Wafer garraiolaria erretilua

Gure fabrikako waiketako garraiolaria erosteko modua ziurtatu dezakezu.

Vetek erdieroaleak, batez ere, CVD SIC estaldurako grafitoak eskaintzen ditu hirugarren belaunaldiko SIC-CVD ekipamenduko hirugarren belaunaldiko erretilua, eta industriarako ekoizpen ekipamendu aurreratu eta lehiakorra eskaintzera dedikatzen da. SIC-CVD ekipamenduak silizio karburoen gaineko geruza epitaxial geruza homogeneoa hazteko erabiltzen da, sic silical xafla sic-a batez ere, Schottky diodo, Igbt, Mosfet eta beste gailu elektronikoak bezalako potentzia gailuen fabrikaziorako erabiltzen da.

Ekipoak prozesua eta ekipoak oso lotuta uztartzen ditu. SIC-CVD ekipamenduak abantailak ditu ekoizpen-ahalmen altuan, 6/8 hazbeteko bateragarritasunean, kostu lehiakorrean, etengabeko hazkunde kontrol automatikoa labeen, akats-tasa eta fidagarritasuna, tenperatura-eremuaren kontrolaren eta fluxu eremuaren kontrolaren bidez. Vetek erdieroaleek emandako SIC estalitako ogitarteko erretiluarekin konbinatuta, ekipamenduaren ekoizpenaren eraginkortasuna hobetu dezake, bizitza luzatu eta kostua kontrolatzea.

Vetek erdieroaleen obleen erretiluak garbitasun handia du, grafitoaren egonkortasun ona, prozesatzeko doitasun handia, gehi CVD SiC estaldura, tenperatura altuko egonkortasuna: silizio-karburozko estaldurek tenperatura altuko egonkortasun bikaina dute eta substratua bero eta korrosio kimikotik babesten dute tenperatura oso altuko inguruneetan. .

Gogortasuna eta higadura-erresistentzia: silizio-karburozko estaldurek gogortasun handia izan ohi dute, higadura-erresistentzia bikaina eskaintzen dute eta substratuaren bizitza iraupena luzatzen dute.

Korrosioarekiko erresistentzia: siliziozko karburozko estaldura korrosioarekiko erresistentea da produktu kimiko askorekiko eta substratua korrosioaren kalteetatik babestu dezake.

Marruskadura-koefiziente murriztua: silizio-karburozko estaldurek marruskadura-koefiziente baxua izan ohi dute, eta horrek marruskadura-galerak murrizten ditu eta osagaien lan-eraginkortasuna hobetu dezake.

Eroankortasun termikoa: siliziozko karburozko estaldurak eroankortasun termiko ona izan ohi du, eta horrek substratuari beroa hobeto barreiatzen lagun dezake eta osagaien beroa xahutzeko efektua hobetzen du.

Oro har, CVD silizio-karburozko estaldurak substratuari babes anitz eman diezaioke, bere bizitza iraupena luzatu eta errendimendua hobetu dezake.

CVD SiC estalduraren oinarrizko propietate fisikoak:

Ekoizpen dendak:

Txip erdieroaleen epitaxia industria-katearen ikuspegi orokorra: