ALD Fused Quartz idulkia

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestalak erdieroaleen fabrikazio prozesuan funtsezko zeregina du euskarri egitura gisa.kuartzozko itsasontzia, eusteko erabiltzen denaostia. Fused Quartz Pedestal-ek filmaren deposizio uniformea ​​lortzen laguntzen du tenperatura egonkorra mantenduz, eta horrek gailu erdieroaleen errendimenduan eta fidagarritasunean zuzenean eragiten du. Gainera, Quartz Pedestal-ek beroaren eta argiaren banaketa uniformea ​​bermatzen du prozesu-ganberan, eta horrela, deposizio-prozesuaren kalitate orokorra hobetzen du.

Ald Fusion Quartz-eko pedestalaren abantailak

Tenperatura Handiko Erresistentzia: Kuartzo fusionatutako idulkiaren leuntze-puntua 1730 °C ingurukoa da, eta 1100 °C eta 1250 °C arteko tenperatura altuko funtzionamendua jasan dezake denbora luzez eta muturreko tenperatura-inguruneetan jasan daiteke 1450 °C arte. denbora laburrean.

Korrosioarekiko Erresistentzia Bikaina: Kuartzoa fusionatutako kuartzoa oso kimikoki inertea da ia azido guztientzat, azido fluorhidrikoa izan ezik. Bere azidoaren erresistentzia zeramika baino 30 aldiz handiagoa da eta altzairu herdoilgaitza baino 150 aldiz handiagoa. Fusionatutako kuartzoak kimikoki ez du pareko tenperatura altuetan, eta material ezin hobea da prozesu kimiko konplexuetarako.

Egonkortasun termikoa: Fusion Quartz-eko materialaren funtsezko ezaugarria hedapen termikoaren koefiziente txikia da. Horrek esan nahi du tenperatura dramatikoko gorabeherak erraz kudeatu ditzakeela pitzatu gabe. Adibidez, fusio silizea kuartzoa azkar berotu daiteke 1100 ºC-ra eta zuzenean ur hotzean murgildu daiteke kalteik gabe, estres handiko fabrikazio baldintzetan.

Fabrikazio-prozesu zorrotza: Fusionatutako silizezko idulkien ekoizpen-prozesuak kalitate-estandarrak zorrotz betetzen ditu. Ekoizpen-prozesuak bero-konformazio eta soldadura-prozesuak erabiltzen ditu, normalean 10.000 klaseko gela garbiko ingurune batean egiten direnak. Ondoren, kuartzozko beirazko idulkia ondo garbitzen da ur ultrapuruarekin (18 MΩ) produktuaren garbitasuna eta errendimendu optimoa bermatzeko. Amaitutako produktu bakoitza zorroztasunez ikuskatu, garbitu eta 1.000 klaseko edo goragoko gela garbi batean ontziratzen da erdieroaleen industriaren estandar altuak betetzeko.

Garbitasun handiko silize kuartzozko material opakua

VeTeksemi ALD Fused Quartz Pedestal-ek purutasun handiko kuartzozko material opakua erabiltzen du beroa eta argia modu eraginkorrean isolatzeko. Bere beroaren babes eta argiaren babes-ezaugarri bikainak prozesu-ganberan tenperatura-banaketa uniformea ​​mantentzea ahalbidetzen du, mehearen uniformetasuna eta koherentzia bermatuz.Zinema deposizioaazalaren gainazalean.

Aplikazio-eremuak

Kuartzozko pedestalak oso erabiliak dira erdieroaleen industriaren arlo askotan, errendimendu bikaina dela eta. NGeruza atomikoaren deposizio-prozesua (ALD)., zinemaren hazkuntzaren kontrol zehatza onartzen du eta gailu erdieroaleen aurrerapena ziurtatzen du. Npresio baxuko lurrun-deposizio kimikoa (LPCVD) prozesuaHori dela eta, garbitasun handiko kuartzozko pedestalaren egonkortasun termikoak eta argiaren aurkako gaitasuna bermeak eskaintzen dituzte film meheen deposizio uniformearengatik, horrela gailuaren errendimendua eta etekina hobetuz.

Horrez gain, difusio oblearen prozesuan, Fused Quartz Pedestalaren tenperatura altuko erresistentzia eta korrosio kimikoaren erresistentzia material erdieroaleen dopatze prozesuaren fidagarritasuna eta koherentzia bermatzen dira. Funtsezko prozesu hauek gailu erdieroaleen errendimendu elektrikoa zehazten dute, eta kalitate handiko Fused Quartz materialek ezinbesteko zeregina dute prozesu horien emaitzarik onenak lortzeko.

Vetek erdieroaleak Ald Fusion Quartz-eko pedestal dendak: