Teknologia eta irtenbideak

CVD SiC, TaC estaldura edo SiC solido egokia hautatzeak zuzenean zehazten ditu partikulen mailak eta osagaien iraupena epitaxia/grabatu-lerroetan. Artikulu honek tenperaturaren, atmosferaren eta prozesuaren arabera hautatze-muga argiak eskaintzen ditu, ekipamenduen ordezko soluzio nagusiekin eta neurketa giltzarriekin batera, erabakiak azkar hartzen laguntzeko eta arriskua murrizteko.

Ezagutu VeTek-en urez gidatutako laser teknologiak Φ0,15 mm-ko zulo uniformeak eskaintzen dituen 2 mm-ko SiC substratuetan, taperrik gabe, HAZ minimorik eta erdieroaleen aplikazioetarako errendimendu handikoa.

Erdieroaleen ekipamendu zuloen igogailuen arazo teknikorik zailena ez da kanpoko gainazaleko estaldura, baizik eta CVD estaldura egonkor eta uniformea ​​lortzea egitura hutsaren barruko horman. Barruko hormako estalduraren uniformetasunaren kontroletik barne zuloen garbitasunaren bermeraino, prozesu-urrats bakoitzak zuzenean eragiten du oblearen etekinean. Artikulu honek igogailu hutsen barruko hormaren estalduraren oinarrizko erronkak eta bide tekniko nagusiak aztertzen ditu.