Teknologia eta irtenbideak

Teknologia eta irtenbideak

01-03 VETEK | CVD SiC estalduraren lodiera-uniformitaterako eta partikulen kontrolerako funtsezko metrikak
05

01-03 VETEK | CVD SiC estalduraren lodiera-uniformitaterako eta partikulen kontrolerako funtsezko metrikak

Materiala hautatu ondoren, maiz erremintaren errendimendua erabakitzen duena neurri kuantifikagarriak dira, hala nola lodiera-uniformitatea, partikulen maila eta purutasuna. Artikulu honek CVD SiC estalduraren kalitatearen funtsezko dimentsioak antolatzen ditu onarpenean eta erabileran, "zehaztapenen bat-etortzeetatik" "txostena egiaztatu daiteke eta arriskua aurreikus daiteke".
Gehiago ikusi
01-02 VETEK | Nola hautatu SiC estaldura, TaC estaldura edo SiC solidoa prozesu baldintzen arabera
06

01-02 VETEK | Nola hautatu SiC estaldura, TaC estaldura edo SiC solidoa prozesu baldintzen arabera

Artikulu honek CVD SiC estalduraren, TaC estalduraren eta SiC solidoaren aplikazio-mugak eta agertoki tipikoak zehazten ditu tenperatura, atmosfera eta prozesu motaren arabera, epitaxia eta akuaforte ingeniariei prozesu-leihoak azkar lerrokatzen laguntzen die hautatzean eta partikulak eta bizitza osorako arriskuak saihesten ditu material-baldintza desegokiengatik.
Gehiago ikusi
01-01 VTEEK | Grafitoaren susceptor bateragarritasuna eta 1:1 pertsonalizatutako ordezko irtenbideak
07

01-01 VTEEK | Grafitoaren susceptor bateragarritasuna eta 1:1 pertsonalizatutako ordezko irtenbideak

Aixtron G10, Veeco, ASM susceptor eta aurrez berotzeko eraztunentzako bateragarritasun eta ordezko irtenbideak. 1:1 marrazkian oinarritutako pertsonalizazioa onartzen du, bidalketa azkarra piezen estandarrentzako, 3-6 aste pieza pertsonalizatuetarako, ikuskapen-txostenekin eta lagin-ebaluazioarekin.
Gehiago ikusi
01 CVD SiC, TaC eta SiC solidoen errendimendu-mugak epitaxia eta grabaketa prozesuetan
08

01 CVD SiC, TaC eta SiC solidoen errendimendu-mugak epitaxia eta grabaketa prozesuetan

CVD SiC, TaC estaldura edo SiC solido egokia hautatzeak zuzenean zehazten ditu partikulen mailak eta osagaien iraupena epitaxia/grabatu-lerroetan. Artikulu honek tenperaturaren, atmosferaren eta prozesuaren arabera hautatze-muga argiak eskaintzen ditu, ekipamenduen ordezko soluzio nagusiekin eta neurketa giltzarriekin batera, erabakiak azkar hartzen laguntzeko eta arriskua murrizteko.
Gehiago ikusi
X
Cookieak erabiltzen ditugu nabigazio esperientzia hobea eskaintzeko, guneko trafikoa aztertzeko eta edukia pertsonalizatzeko. Gune hau erabiltzean, gure cookieen erabilera onartzen duzu. Pribatutasun politika
BaztertuOnartu