CVD Silizio Karburoa (SiC) Estalitako Grafitoa Dutxa Burua

Ezaugarri nagusiak

• Garbitasun oso altua - SiC estaldurak grafitoa guztiz zigilatzen du, beraz, ez da gasa botatzen edo metalen kutsadurarik.

• Gasaren banaketa bikaina - Dutxa-buru bakoitza mekanizatuta dago oblea osoan gasaren abiadura koherentea emateko.

• Korrosioarekiko erresistentzia handia - CVD SiC-k ez du halogenoekin edo prozesuko hondakinekin erreakzionatzen. Grafito biluziak edo kuartzoak baino askoz gehiago irauten du.

• Errendimendu termiko bikaina - Estaldurak grafitoaren hedapen termikoarekin bat egiten du, beraz, ez dago pitzadurarik tenperatura azkarrean.

• Doitasunezko fabrikazioa - CNC mekanizazioa eta barneko CVD estaldura erabiltzen ditugu. Zuloen diametroak eta ereduak tolerantzia estuekin mantentzen dira.

Zehaztapen Teknikoak

Aplikazioak

Dutxa-buru hauek erabiltzen dira:

• Erdieroaleen CVD sistemak (produkzioa zein I+G)

• PECVD ekipoak – tenperatura baxuko dielektrikoak

• MOCVD erreaktoreak – GaN, InP bezalako III-V konposatuak

• Silizio epitaxia (Si Epi) – potentzia-gailuetarako eta CMOSetarako

• SiC epitaxia – tentsio handiko potentzia elektronikoa

• Erdieroaleen fabrika konposatuak

• Enbalaje aurreratuak (adibidez, TSV-ren forrua)

• Korrosioaren aurkako eta purutasun handiko gas-banatzaile bat behar duen film meheko edozein tresna

Zergatik aukeratu VETEK?

• Ez gara merkataritza-enpresa bat. Dena, grafitoaren mekanizaziotik CVD SiC estaldura arte, barnean egiten da. Horrek esan nahi du kalitatea, epea eta kostua kontrolatzen ditugula.

• Etxeko fabrikazio osoa, kanpo-kontratazio-sorpresarik gabe

• Estaldura-teknologia aurreratua: CVD SiC trinkoa, zulorik gabekoa

• Ingeniaritza-laguntza pertsonalizatua: bidal iezaguzu zure dutxa-buruaren marrazkia edo erreaktorearen eredua

• Erdieroaleen hornikuntza-kate fidagarria - urteak daramatzagu fabrikatzaileak eta OEMak hornitzen

• Ez duzu diseinu berri bat berriro sailkatu beharrik aldi bakoitzean. Dagoeneko estali ditugu plataforma arrunt askotarako (AMAT, TEL, LAM, ASM, etab.).