Industria Berriak

Tantalum Carbide (TAC) estaldurak oso erabiliak dira batez ere hazteko erreaktoreen osagaiak, tenperatura handiko hazkundearen osagai nagusiak, tenperatura handiko industria-osagaiak eta ogitartekoak. Tenperatura altuko erresistentzia bikaina eta korrosioarekiko erresistentzia hobetu dezake ekipoen iraunkortasuna, errendimendua eta kalitatea, energia kontsumoa murrizteko eta egonkortasuna hobetzeko.

SIC hazkunde epitaxial prozesuan, SIC estalitako grafito esekidura gutxiegitzea gerta daiteke. Artikulu honek SIC estalitako grafitoaren esekidura porrotaren azterketa zorrotza egiten du, batez ere bi faktore biltzen dituena: SIC Epitaraxial Gas Hutsegitea eta SIC estalduraren porrota.

Artikulu honetan dagozkien prozesuaren abantailak eta habe molekularreko epitaxia prozesuaren eta metalezko produktu kimikoen metalikoen desberdintasunak eztabaidatzen ditu.

Vetek erdieroalearen karburoa porotsua, SIC kristal hazkunde materialaren belaunaldi berri gisa, produktuaren propietate bikainak ditu eta funtsezko eginkizuna du prozesatzeko prozesatzeko teknologia ugari.

Epitarxo labearen lan printzipioa tenperatura altuko eta presio altuko substratu batean material erdieroaleak gordetzea da. Silizioaren hazkunde epitaxiala kristal geruza bat haztea da, substratuaren orientazio berdina eta siliziozko kristalezko kristal bakarreko substratuaren inguruko lodiera desberdinak. Artikulu honek batez ere silizio epitaxial hazkunde metodoak aurkezten ditu: EPITAXIA EPITAXIA ETA EPITAXIA LIKIDOAREN FASEA.

Epaiketa kimikoen gordailua (CVD) erdieroaleen fabrikazioan zinema-material meheak ganbaran gordetzeko erabiltzen da, SiO2, bekatua eta abar barne, eta normalean erabilitako moten artean PECVD eta LPCVD dira. Tenperatura, presioa eta erreakzio gas mota egokituz, CVDk garbitasun altua, uniformetasuna eta zinema estaldura ona lortu ditu prozesuko eskakizun desberdinak betetzeko.