QR kodea
Guri buruz
Produktuak
Jarri gurekin harremanetan

Mugikorra

Faxa
+86-579-87223657

Posta elektronikoa

Helbidea
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiang Probintzia, Txina
Tantalo karburoa (TaC) estaldura grafitoari eta karbono-oinarritutako osagai hautatuei aplikatutako tenperatura altuko zeramikazko babes-geruza bat da. Erdieroaleen fabrikazioan, CVD TaC estaldurak labe eta erreaktoreen zati kritikoak babesteko erabiltzen dira aplikazio zorrotzetan, SiC kristal bakarreko hazkuntza eta prozesamendu epitaxiala barne. Estalduraren errendimendua bere mikroegituraren, garbitasunaren, lodieraren, atxikitzearen eta ingurune eragilearekiko bateragarritasunaren araberakoa da.
TaC estalduraren oinarrizko propietate fisikoak
Dentsitatea
14,3 (g/cm³)
Emisio espezifikoa
0.3
Dilatazio termikoaren koefizientea
6,3*10-6/K
Gogortasuna (HK)
2000 HK
Erresistentzia
1×10-5 Ohm*cm
Egonkortasun termikoa
<2500℃
Grafitoaren tamaina aldatzen da
-10~-20um
Estalduraren lodiera
≥20um balio tipikoa (35um±10um)
Eroankortasun termikoa
9-22 (W/m·K)
Tantalio karburozko estalduragrafitoaren osagaiak modu eraginkorrean babestu ditzake amoniako beroaren, hidrogenoaren, silizio-lurrunaren eta metal urtuaren eraginetatik erabilera-ingurune gogorretan, grafitoaren osagaien bizitza nabarmen luzatuz eta grafitoaren ezpurutasunen migrazioa kenduz, kalitatea bermatuz.epitaxialaetakristalen hazkundea.
1. Irudia Tantalo Karburo Estalitako Osagai Ohikoak
Lurrun-deposizio kimikoa (CVD) TaC estaldurak grafitozko gainazaletan ekoizteko metodorik helduena eta egokiena da.
TaCl5 eta propilenoa karbono eta tantalio iturri gisa, hurrenez hurren, eta argon gas eramaile gisa erabiliz, tenperatura altuko lurrundutako TaCl5 lurruna erreakzio-ganberan sartzen da. Xede-tenperaturan eta presioan, material aitzindariaren lurruna grafitoaren gainazalean xurgatzen da, eta erreakzio kimiko konplexu batzuk jasaten ditu, hala nola karbono eta tantalio iturrien deskonposizioa eta konbinazioa, baita gainazaleko erreakzio batzuk ere, hala nola, aitzindariaren azpiproduktuen difusioa eta desortzioa. Azkenik, grafitoaren gainazalean babes-geruza trinko bat eratzen da, grafitoa muturreko ingurune-baldintzetan egonkortasunetik babesten duena eta grafito-materialen aplikazio eszenatokiak nabarmen zabaltzen ditu.
2. irudia.Lurrun-deposizio kimikoa (CVD) prozesu-printzipioa
CVD TaC estaldura prestatzeko printzipioei eta prozesuari buruzko informazio gehiago lortzeko, ikusi artikulua:Nola prestatu CVD TaC estaldura?
Veteksemiconbatez ere tantalio karburoko produktuak eskaintzen ditu: TaC gida eraztuna, TaC estalitako hiru petalo eraztuna,TaC estaldura arragoa,TaC estaldura grafito porotsua oso erabilia da SiC kristalen hazkuntza prozesua; Grafito porotsua TaC estaliarekin, TaC estalitako gida-eraztunarekin,TaC estalitako grafito obleen eramailea, TaC estaldura suszeptoreak,planetaren suszeptorea, Eta tantalio karburoko estaldura produktu hauek oso erabiliak diraSiC epitaxia prozesuaetaSiC kristal bakarreko hazkuntza prozesua.
3. irudia.VeTek Semiconductor-en tantalio karburoaren estaldura produktu ezagunenak
1. Zertarako erabiltzen da TaC estaldura?
TaC estaldura grafitoa eta karbonoan oinarritutako osagai hautatuak babesteko erabiltzen da ingurune termiko eta kimiko zorrotzetan. Aplikazio garrantzitsuen artean SiC kristalak hazteko ekipoak eta erdieroale epitaxial-prozesatzeko osagai batzuk daude.
2. Zein da TaC eta SiC estalduraren arteko aldea?
TaC eta SiC karburozko material desberdinak dira, propietate termiko, kimiko eta mekaniko desberdinak dituztenak. TaC erabilgarria izan daiteke muturreko tenperaturan kristalen hazkuntzako ingurune hautatuetan, eta CVD SiC erreaktore erdieroaleen osagaietan oso ezarrita dagoen bitartean. Hautaketa aplikazioaren araberakoa da.
3. Zergatik erabiltzen da TaC estaldura SiC kristalen hazkundean?
TaC estaldurek grafitoaren osagaiak SiC PVT prozesu-ingurune zorrotzetatik babesten lagun dezakete. Behar bezala kualifikatutako estaldura-diseinuek substratuaren degradazioa eta lotutako kutsadura-arriskuak murriztu ditzakete.
4. Zerk eragiten du TaC estaldura pitzadura edo delaminazioa?
Balizko arrazoiak hondar-esfortzua, tenperatura-gradienteak, substratuaren akatsak, ziklo termiko bateraezinak eta estaldura-interfazearen degradazioa dira. Porrotaren azterketa zehatza behar da benetako kausa ezartzeko.
5. TaC estaldura tantalio metalezko estalduraren edo ta-C estalduraren berdina da?
Ez. TaC tantalio-karburoa da, tantalio eta karbono-konposatu zeramikazkoa. Tantalio metalezko estaldura beste material bat da, ta-C-k normalean karbono amorfo tetraedrikoari egiten dio erreferentzia, diamantearen antzeko karbono-estaldura modu bat.
6. TaC estalitako grafito osagaiak pertsonalizatu al daitezke?
Osagaien geometria, grafitoaren kalifikazioa, estaldura-eskakizunak eta ikuskapen-irizpideak zehaztu daitezke ingeniaritza berrikusteko. Fabrikazioaren bideragarritasuna eta lor daitezkeen perdoiak eskaeraren eta onartutako planoen arabera baieztatu behar dira.
+86-579-87223657
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiang Probintzia, Txina
Copyright © 2024 WuYi TianYao New Material Tech.Co.,Ltd. Eskubide guztiak erreserbatuta.
Links | Sitemap | RSS | XML | Pribatutasun politika |