Produktuak

Wafer chunk oblea clamping tresna erdieroaleen prozesuetan eta oso erabilia da PVD, CVD, ETCH eta beste prozesu batzuetan. Etxeko fabrikazioarekin, prezio lehiakorrean eta I+G laguntza sendoarekin, Vetek Semiconductor-ek OEM/ODM zerbitzuetan nabarmentzen du doitasun osagaietarako. Zure kontsultaren zain.

SIC Wafer itsasontzia oxidaziorako eta zabalkunde prozesurako batez ere erabiltzen da, tenperatura modu uniformean banatu daitekeela ziurtatzeko. SIC materialen tenperatura egonkortasun altua eta eroankortasun termiko altua prozesamendu erdieroale eraginkorra eta fidagarria bermatzen dute. Vetek erdieroaleak konpromisoa hartu du kalitatezko produktuak prezio lehiakorretan eskaintzeko.

Vetek erdieroaleak errendimendu handiko SIC prozesuko hodiak eskaintzen ditu erdieroaleen fabrikaziorako. Gure SIC prozesuko hodiak oxidazioan, difusio prozesuetan nabarmentzen dira. Kalitate eta eskulan handiz, hodiek tenperatura altuko egonkortasuna eta eroankortasun termikoa eskaintzen dituzte prozesamendu erdieroale eraginkorrerako. Prezio lehiakorrak eskaintzen ditugu eta Txinan epe luzerako bikotea izan nahi dugu.

VeTek Semiconductor-en SiC Cantilever Paddle tratamendu termikoko labeetan erabiltzen da ostia ontziak maneiatzeko eta eusteko. Tenperatura handiko egonkortasuna eta SiC materialaren eroankortasun termiko handiak eraginkortasun eta fidagarritasun handia bermatzen dute erdieroaleen prozesatzeko prozesuan. Kalitate handiko produktuak prezio lehiakorretan eskaintzeko konpromisoa hartzen dugu eta epe luzerako zure bazkide bihurtzea espero dugu Txinan.

Ald Prozesua, geruza atomikoaren epitaxia prozesua esan nahi du. Vetek erdieroale eta aldagileen fabrikatzaileek Ald Prozesuaren eskakizun altuak betetzen dituzten SIC estalitako ALD Planetarioak garatu eta ekoitzi dituzte, aire-fluxua substratuaren gainean banatzeko. Aldi berean, gure garbitasun handiko CVD SIC estaldurak prozesuan garbitasuna bermatzen du. Ongi etorri gurekin lankidetza eztabaidatzeko.

Vetek erdieroalearen TAC estalitako grafitoaren grafitoa grafitoen metalikoen metalezko metodo kimikoaren (CVD) metodoa erabiltzen du grafitoen azaleraren gainazalean. Prozesu hau heldua da eta estalduraren propietate onenak ditu. TAC estalitako grafitoen suszeptoreak grafitoen osagaien zerbitzuaren bizitza luzatu dezake, grafito ezpurutasunen migrazioa inhibitzen du eta epitaxia kalitatea ziurtatu du. Zure ikerketa espero dugu.