Silizio karburo solidoa fokatzeko eraztuna

Veteksemicon Silizio Karburo Solidoaren Fokatze Eraztuna erdieroaleen fabrikazioan funtsezko osagaia da, obleatik kanpo estrategikoki kokatuta kontaktu zuzena mantentzeko. Aplikaturiko tentsio bat erabiliz, eraztun honek plasma zeharkatzen duen plasma bideratzen du, eta horrela oblean prozesuaren uniformetasuna hobetzen du. Lurrun Kimikoen Deposizio Silizio Karburoz (CVD SiC) soilik eraikita, fokatze-eraztun honek erdieroaleen industriak eskatzen dituen ezaugarri paregabeak biltzen ditu. Veteksemicon-en garatzen gara errendimendu handiko siliziozko karburo solidoko fokatze-eraztunak fabrikatzen eta hornitzen, kalitate onekoa kostu-eraginkortasunarekin uztartzen dutenak.

Produktuaren Abantailak

Tradizionalarekin alderatutaSilizio (Si) edo silizio karburo sinterizatua (SiC sinterizatua) foku eraztunak, gure produktua dimentsio nagusietan nabarmentzen da:

Nabarmentzekoa, silizio-karburoaren eroankortasuna eta ioi-grabazioarekiko erresistentzia silizioarekin oso antzekoa da, lehendik dauden erdieroaleen fabrikazio-prozesuekin bateragarritasuna bermatuz, errendimendu hobetua eskaintzen duen bitartean, Veteksemicon Silizio-karburo solidoaren fokatze-eraztuna aplikazio kritiko honetarako material ezin hobea da.

Veteksemicon Siliziozko Karburo Solidoaren Fokatze Eraztuna erdieroaleen fabrikazioaren alorrean puntako soluzio gisa dago. CVD SiC-ren material abantailak guztiz aprobetxatzen ditu grabaketa-prozesu fidagarriak, doitasun handikoak eta eraginkortasun handikoak errazteko, hurrengo belaunaldiko erdieroaleen teknologiaren aurrerapenean nabarmen lagunduz.