Berriak

Hirugarren belaunaldiko erdieroaleak ikusten dituzunean, ziur izango zara zein izan diren lehenengo eta bigarren belaunaldiak. Hemen "belaunaldia" erdieroaleen fabrikazioan erabilitako materialen arabera sailkatzen da.

Chuck elektrostatikoa (ESC), Chuck elektrostatikoa (ESC, E-Chuck) bezala ere ezaguna da, adsorzio elektrostatikoaren printzipioa erabiltzen duen eta adsorbatutako materiala konpontzeko eta konpontzeko. Hutsean eta plasma inguruneetarako egokia da.

SIC wafer eramaileak, hirugarren belaunaldiko erdieroaleen industriaren katearen kontsumitzaile gakoak, haien ezaugarri teknikoak hazkunde epituxialaren eta gailuaren fabrikazioaren errendimendua zuzenean eragiten dute. Tentsio handiko eta tenperatura altuko gailuen eskaera areagotzearekin 5g base geltokietan eta energia-ibilgailu berrietan, SIC wafer eramaileen ikerketa eta aplikazioa garapen aukera garrantzitsuei aurre egiten ari dira.

Alumina zeramika zeramikazko osagaiak fabrikatzeko "Workhorse" dira. Ezaugarri mekaniko bikainak, urtze puntu eta gogortasun, korrosioarekiko erresistentzia, egonkortasun kimiko sendoa, erresistentzia handiko eta goi mailako isolamendu elektrikoa erakusten dituzte. Normalean leuntzeko plakak, hutsezko txingak, zeramikazko besoak eta antzeko zatiak fabrikatzeko erabiltzen dira.

Material erdieroaleak hiru belaunalditan sailka daitezke orden kronologikoan. Lehenengo sorrera material oinarrizko material komunek osatzen dute, esaterako, alemaniarra eta silizioa, etengabeko aldaketak eta, oro har, zirkuitu integratuetan erabiltzen dira. Gallium Arsenide eta Indium fosfuroa bezalako bigarren belaunaldiko semiko konposatuak, batez ere, luminescent eta komunikazio materialetan erabiltzen dira.

Kuartziko gailuek funtzio kritikoa dute eguzki zelulen fabrikazioan, aparteko erresistentzia termikoa, garbitasun kimikoa eta egiturazko egonkortasuna eskainiz tenperatura handiko prozesuetan. Kuartzozko difusio hodietatik eta gurutzeetatik kuartzozko itsasontzietara eta labeen osagaietara, ezinbestekoak dira garbitasun handiko material hauek difusio, CVD eta bustitako urratsetan eraginkortasun optimoa lortzeko.