Berriak

Neurketa-ekipamendu mota ugari daude fabrika fabrikan. Ekipamendu arruntak litografia prozesuen neurketa ekipamendua, grabaketa prozesua neurtzeko ekipoak, Zinema metalikoen depositazio prozesua neurtzeko ekipoak, doping prozesua neurtzeko ekipamendua, CMP prozesua neurtzeko ekipoak, waffer partikulak hautemateko ekipoak eta neurketa ekipamenduak ditu.

Tantalum Carbide (TAC) estaldurak grafitoen bizitza nabarmen luzatu dezake tenperatura altuko erresistentzia, korrosioarekiko erresistentzia, propietate mekanikoak eta kudeaketa termikoko gaitasunak hobetuz. Garbitasun handiko ezaugarriak garbitasun kutsadura murrizten dute, kristalen hazkuntzaren kalitatea hobetzen dute eta energia eraginkortasuna hobetzen dute. Tenperatura handiko eta kristal hazkuntzarako aplikazioetarako egokia da tenperatura handiko ingurune oso korrosiboan.

Tantalum Carbide (TAC) estaldurak oso erabiliak dira batez ere hazteko erreaktoreen osagaiak, tenperatura handiko hazkundearen osagai nagusiak, tenperatura handiko industria-osagaiak eta ogitartekoak. Tenperatura altuko erresistentzia bikaina eta korrosioarekiko erresistentzia hobetu dezake ekipoen iraunkortasuna, errendimendua eta kalitatea, energia kontsumoa murrizteko eta egonkortasuna hobetzeko.

SIC hazkunde epitaxial prozesuan, SIC estalitako grafito esekidura gutxiegitzea gerta daiteke. Artikulu honek SIC estalitako grafitoaren esekidura porrotaren azterketa zorrotza egiten du, batez ere bi faktore biltzen dituena: SIC Epitaraxial Gas Hutsegitea eta SIC estalduraren porrota.