Berriak

Wafer CMP leuntzeko minda CMP erdieroaleen fabrikazio prozesuan bereziki formulatutako material likidoa da. Urak, aktatzaile kimikoak, urratzaileak eta surfaktanteek osatzen dute, bai grabaketa kimikoa bai leunketa mekanikoa ahalbidetzen dutenak.

Silizio karburoko urratzaileak normalean kuartzoa eta petrolio-kokea erabiliz ekoizten dira lehengai gisa. Prestaketa-etapan, material hauek prozesatu mekanikoa egiten dute nahi den partikulen tamaina lortzeko, labearen karga kimikoki proportzionatu aurretik.

Azken urteotan, ontziratzeko teknologiaren erdigunea pixkanaka itxuraz "teknologia zahar" bati utzi zaio - CMP (Chemical Mechanical Polishing). Hybrid Bonding ontzi aurreratuen belaunaldi berriaren protagonismoa bihurtzen denean, CMP agertokietatik fokuetara pasatzen ari da pixkanaka.

Etxeko eta sukaldeko etxetresna elektrikoen munduan etengabe eboluzionatzen ari den honetan, produktu batek bere berrikuntza eta aplikazio praktikoagatik arreta handia lortu du duela gutxi: Quartz Thermos Bucket.

Kuartzoko produktuak oso erabiliak dira erdieroaleen fabrikazio prozesuan, garbitasun handiko, tenperatura handiko erresistentzia eta egonkortasun kimiko sendoaren ondorioz.

Silikonazko karburo (sic) kristal hazkunde labeek funtsezko eginkizuna dute errendimendu handiko SIC ogiak ekoizteko hurrengo belaunaldiko erdieroale gailuetarako. Hala ere, kalitate handiko SIC kristalek hazteko prozesuak erronka garrantzitsuak aurkezten ditu. Muturreko gradiente termikoak kristal akatsak murrizteko, hazkunde uniformea ​​bermatuz, eta ekoizpen kostuak kontrolatuz, urrats bakoitzak ingeniaritza irtenbide aurreratuak behar ditu. Artikulu honek ikuspegi anitzetatik sic kristal hazkuntzaren erronka teknikoak aztertuko ditu.