Silizio-karburozko estaldura

Vetekemicon-en CVD Sic Wafer Wafer Sicfer punta-puntako prozesuak egiteko prozesu puntetiboak dira. Zehaztasun CVD teknologiarekin diseinatu da, 6 "/ 8" / 12 "wafers onartzen ditu, gutxieneko estres termikoa bermatzen du eta 1600 ºC-ko muturreko tenperaturak jasaten ditu.

Gure sic estalitako planetaren susmoa osagai nagusia da, erdieroaleen fabrikazio prozesuan. Bere diseinuak grafitoaren substratua silizio karburo estaldurarekin konbinatzen du kudeaketa termikoaren errendimendua, egonkortasun kimikoa eta indar mekanikoa optimizatzeko.

Epitariozko zigilatzeko estaldura handiko zigilatzeko eraztuna da, grafito eta karbono karbono konposatuetan sortutako siliziozko karbonoarekin (SIC). Kimika Lurrazpiko Gordailua (CVD), grafitoaren egonkortasun termikoa SICen ingurumenarekiko erresistentziarekin eta EPITAXIAL EKIMENA (E.G., MOCVD, MBE) diseinatuta dago.

VetekemicInson Wafer Bakarra Epi Grafito Suscordor performance handiko silizio karburo (SIC), Gallium Nitride (GAN) eta hirugarren belaunaldiko erdieroaleen prozesu epitaxialetarako diseinatuta dago, eta zehaztasun handiko produkzioko zehaztasun handiko xaflaren osagaia da.

Wafer Fabrication-en erabilitako osagai garrantzitsua plasma-grabaketa-eraztuna da. Bere funtzioak plasma dentsitatea mantentzeko eta waiketako seidak kutsatzea saihesteko da. Silizio monokristalinoaren, silizio karburo eta beste material batzuk bezalako material ezberdinekin.

Vetek erdieroalea Txinan SIC estalitako e-chucks fabrikatzaile eta hornitzaile garrantzitsuena da. Sic estalitako e-chuck bereziki diseinatuta dago Gan Wafer grabatzeko prozesurako, errendimendu bikaina eta zerbitzu luzeko bizitza, zure erdieroaleen fabrikaziorako laguntza guztietarako. Prozesatzeko gaitasun sendoak nahi duzun SIC zeramikazko suszeptorea emateko aukera ematen digu. Zure galdetzeari begira.